华为公司尚未公布何时能够生产出光刻机，目前主要依赖于代工合作和自主研发，华为已经在多个国家设立了生产基地，加速芯片制造的技术研发。
上海微电子据信在未来一年内可以生产28nm的光刻机，与国际水平相比仍有较大差距，当初，中国相关配套产业链与国际水平在同一起跑线上竞争，但随着时间的推移，开始落后于别人，制程变得越来越先进，相关配套设施要求越来越高，中国因此跟不上别人的步伐，最终只能放弃，在上世纪90年代，上海微电子从零开始研发，经过长时间的挫折和摸索，终于实现了90nm的光刻机研发。
光刻机的难度主要体现在设备复杂性和获取零部件困难这两个方面，设备复杂是因为有很多部件需要组装，比如离子注入机、单晶炉、刻蚀机、氧化炉等，需要的材料也非常多，包括电子级多晶硅、光刻胶、电子气体等，获取零部件困难则是因为涉及到几百家公司的几千个零部件，而且还缺乏详细的图纸，使得外国公司无法供应高质量的产品。
至于华为能否尽快生产出光刻机，目前看起来并不乐观，目前虽然面临一些挑战，但是如果华为有足够的研发能力和坚定的决心，那么总有一天他们会制造出高端的光刻机，将科研成果商业化，直接推动技术的发展，我认为我们应该保持信心，不断学习和创新，中国人的智慧是没有问题的。
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