现在国家处于危难必须造出光刻机，需要人挺身而出，你怎么选择_华为林姓

现在国家处于危难必须造出光刻机，需要人挺身而出，你怎么选择

造光刻机，不是靠人海战术，靠领导来现场拍个板，说几句话，把人数堆上去就行了。

制造光刻机，必须打破传统思维，找全世界的顶尖高科技人才，让专业人士，干专业的事。进入光刻机这个行业，犹如凤凰涅槃。

光刻机，是工业皇冠上面的两颗明珠之一（另一颗是航空发动机，下次找机会再议），制造难度之大，超乎你的想象。

光刻机，集高端的光学、半导体、精密仪器、工装平台于一体，没有这些跨学科、跨部门的协同作战，没有企业的强强联手，光刻机的入门在哪？你连摸到边的机会都没有。

日本曾经是光刻机领域的老大，在美国的打压下，已经沦为2流。

事情经过如下：

在荷兰ASML公司之前，日本的佳能、索尼公司制造的光刻机在一个起跑线上。

但是，美国人发现这对日本的半导体行业并没有太多的冲击，因此，美国用了三招：第一，日本被判定存储器倾销；征收100%的惩罚关税。第二，签署《美日半导体协议》开放国内市场，让出20%的市场份额。第三，用国内法律，逼迫日本抓捕东芝高管。

这三个措施直接把日本的半导体行业彻底打入低谷。在这种情况下，别说制造光刻机了，东芝、日立的生存都成了问题。

佳能、索尼也一样，在这次日本被美国玩弄之后，也只好乖乖让出光刻机的市场份额。

荷兰飞利浦公司门下的小企业阿斯麦（ASML），由于采纳了台积电一位林姓工程师提出来的浸入式光刻聚焦的解决方法，解决了人类在光源上的难题，用193纳米的光源，刻出了低于28纳米的芯片，一起取得了光刻机老大的地位，成为业界巨头。

ASML极紫外光源的光刻机，现在能够生产5纳米芯片，3纳米的制程也在研究当中。

当然ASML的股东构成，主要由美国的英特尔，韩国的三星，台湾的台积电等芯片生产大佬和资本巨无霸组成，更助力它的成长。

还好，天佑中华。18年前的2002年，黄浦江畔，我国就有一家小小企业，上海微电子，进入了光刻技这个行业。

经过多年耕耘，现在上海微电子，已经成功下线28纳米光刻机。这个意义非常巨大，解决了我们国家光刻机从无到有的问题。28纳米的芯片，已经足够支撑我国当代的工业和国防需要。和国际先进的5纳米光刻机相比，我们大概也就差那么5年左右。

在美国全面打压华为、中兴的今天，中国半导体制造领域的设备国产化是非常必要的！

研制光刻机需要一群专业的高科技人才联合攻关，不是谁愿意干就可以干的，更不是参加的人多就能搞成的。所以，我们这些非专业人员只需要干好自己的本职工作，在自己的岗位上兢兢业业，认真扎实做好自己份内工作，就是对国家的最大支持了，当然，能够在自己的本职工作中作出更大贡献，那也犹如光刻机研制专家在攻关征程中取得重大进展一样。